维意真空PE-CVD等离子体增强化学气相沉积镀膜设备

*** PE-CVD结构特点介绍：
1、PECVD系列真空管式高温烧结炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体；
2、炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用进口高温合金电阻丝为加热元件；
3、高纯石英管横穿于炉体中间作为的炉膛，炉管两端用不锈钢法兰密封，工件式样在管中加热，加热元件
   与炉管平行，均匀地分布在炉管外，有效的保证了温场的均匀性；
4、测温采用性能稳定，**命的“K”型热电偶，以提高控温的精准性；
5、它是专为高等院校﹑科研院所及工矿企业对金属，非金属及其它化和物材料在气氛或真空状态下进行烧
   结﹑融化﹑分析而研制的**设备；
6、MPECVD系列真空管式炉能够快速开启，快速升降温，方便客户对特殊材料的装载，烧制和观察；
7、炉体的控制面板配有触摸屏，控制电源开关，配有电源和保险指示灯，以便随时观察本系统的工作状态。
*** 基本功能介绍：
1、辉光放电：在系统低于100Pa启动射频电源可以实现辉光放电；
2、加热：系统可以设置30段温控程序，彩屏系统预存15条烧培曲线，针对不同的样品，设置不同的预
         设曲线，避免重复设置；
 3、自动清洗功能：样品放入线圈的区域，配置好参数（PECVD功能配置），系统会自动抽真空，并
                  通入设置的气体，自动启动辉光放点；
4、自动cvd功能：样品放入线圈的区域，配置好参数（PECVD功能配置），系统会自动抽真空，并通入
                 设置的气体，自动启动辉光放点；
5、智能能模式：实现自动清洗和cvd功能，样品不需移出，清洗cvd功能一键完成，并能实现多次的循
               环操作；
6、通气时间可以设定：通过界面设置通气时间，时间到后，系统自动停止流量计，达到节能环保的目的；
7、恒定真空控制：系统设置一个真空度的数值（见参数“真空设定值”），配合手动阀和真空泵，系统
                 能实现真空的恒定；
8、系统微正压控制：系统设置一个正压值（见参数“真空设定值”），并配置好相应的气路，配合手动
                   放气阀，可以实现系统微正压的恒定；
9、系统正压保护功能：当因为误操作或者其他原因，系统压力**过保护值时（见参数“放气阀开启压力”），
                    系统会自动关闭进气，保护设备；
10、加热炉膛移动的速度可以调节。




 该系列PECVD系统具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统，动态衬底温控，全面控制真空系统，采用集中现场控制总线技术的“值守精灵”控制软件，以及友好用户操作界面来操作。适用于室温至1400℃条件下进行的SiO2、SiNx,、?SiONx?a-Si薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料，尤其适合于**材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。?
*** 主要特点：
??清洗镀膜一气呵成，杜绝二次污染；
??上开启结构，式样观察方便；
??触屏人机对话整体性操作，安全可靠；;
??产品采用全自动控制方式，触摸屏，数字化显示。
??真空系统、工作压强、电源系统及自动匹配、工艺气体流量、加热系统、运动系统、工艺过程、系统监控及数据采集等